半导体设备

半导体制造工艺 

 

通过e-RT3 Plus实现集中控制到分布式控制，从而缩短节拍时间

 

客户的问题

1. 由于一台 PC 配置设计复杂，腔室的定制很困难。 
    设计不可能匹配每个用户的应用。
2. 使用一台PC时，如果腔室数量增加，实时控制将无法正常工作。
    （延迟发生在并发控制中）

 

解决方案

1. 通过在每个腔室中安装边缘控制器来降低PC的负载
2. 通过多个e-RT3实现实时控制
3. 稳定供应

 

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